2016年PCT国际申请:中兴和华为分列一、二位
日期:2017-03-16 作者: 连和连
国际在线报道(中国国际广播电台记者 刘素云)世界知识产权组织3月15日在日内瓦发布的报告显示,2016年国际专利、商标和工业品外观设计申请连续第7年保持增长,创下新的纪录。其中,中国的国际专利申请量增长了44.7%,中兴通讯股份有限公司和华为技术公司分列国际专利申请人第一位和第二位。
世界知识产权发布的这份报告主要是就知识产权申请国际保护进行的统计,包括三个领域即专利、商标和工业品外观设计。世界知识产权组织总干事弗朗西斯•高锐在日内瓦举行的新闻发布会上表示,与世界经济的低速增长相比,国际专利、商标和工业品外观设计申请则持续快速增长态势。他说:“世界经济增长疲软令人失望,我们这里的情景则完全不同。国际专利申请同比增长7.3%,国际商标申请增长了7.2%,工业品外观设计的国际申请增长了35%。”
其中,国际专利申请依据的是《专利合作条约》。申请人只需提交一份“国际”专利申请,即可在多个不同国家或地区获得专利保护。2016年,世界知识产权组织共受理了23.3万份国际专利申请,同比增长7.3%。
从国家排名来看,美国连续39年位列榜首,共提交了近5.66万件申请,约占全部申请量的四分之一;其次日本,约4.5万件;中国排第三位,共4.3万件。德国和韩国列第四和第五位。
世界知识产权组织指出,中国国际专利申请量自2002年以来一直保持两位数增长,2016年更是达到44.7%。高锐总干事表示:“中国的表现非常出色。在国际专利申请方面,中国的申请量增长了44.7%。我们知道中国经济发展非常迅速,中国国际专利申请量一直保持两位数的增长,但44%的增幅还是很不寻常的。”
高锐指出,中国正在推进从“中国制造”转为“中国创造”的进程,在企业国际化方面迈出了一大步。如果这一趋势继续保持下去,中国将在两、三年内成为第一大国际专利申请国。他说: “如果中国国际专利申请量保持两位数的增速,我们预计明年中国将超过日本跻身第二位,今后两、三年内赶上美国。”
另外,从公司申请人排名来看,中国的中兴通讯和华为分列第一和第二位,其后是美国的高通公司、日本的三菱电机株式会社和韩国的LG电子。从教育机构申请人来看,排名前五位的均为美国的大学,依次为加利福尼亚大学、麻省理工学院、哈佛大学、约翰•霍普金斯大学和德克萨斯大学。进入前20名的中国大学为深圳大学、清华大学和中国矿业大学。从专利所涉及的领域来看,主要集中在数字通信、计算机技术、电气机械和医疗技术领域。报告显示,2016年的国际商标申请增长了7.2%,申请量达5.2万多件。排名上依次为美国、德国、法国、中国和瑞士。其中中国增速最高,达68.6%;其次是俄罗斯,增长32.7%。从申请人来看,法国欧莱雅以150件申请位列榜首,其次是英国的葛兰素集团、德国宝马公司。另外,2016年的工业品外观设计国际申请增长了35%。申请量排名依次为德国、瑞士、韩国、美国和荷兰。日本和土耳其尽管基数很低,但增幅均超过了100%。家具在外观设计总数中所占比例最高,其次是录音和通讯设备、运输工具和钟表。
弗朗西斯•高锐指出,在一个相互关联的知识型全球经济中,创作者和创新者越来越依赖知识产权,以促进和保护其全球竞争优势。
转自:国际在线